Dutch

English

French

German

Italian

Russian

Spanish

Portuguese

Dutch

Greek

Japanese

Korean

Arabic

Turkish

Polish

Vraag een offerte aan |

Thuis Producten

Snel thermisch uitgloeisysteem

CHINA Snel thermisch uitgloeisysteem

Verhoog de productie Rapid Thermal Processing RTP-SA-8 Annealing System

Maximale productgrootte:met een breedte van niet meer dan 20 mm

Afmetingen apparatuur:970 mm x 1450 mm x 2024 mm (breedte x diepte x hoogte)

Het verwarmen temperatuurwaaier:Kamertemperatuur ~ 800 °C (thermocouple) ~ 800 °C ~ 1250 °C (infrarood pyrometer)
150mm verwerkt het Snelle Thermische Onthardende Systeem met Drie Reeksen Gassen

Productnaam:Snel thermisch uitgloeisysteem

Model:Rtp-150RL

Maximale steekproefomvang:150mm

Page 1 of 1

Bladeren door rubrieken：

GaN Epitaxial Wafer
Sic Epitaxial Wafeltje
GaAs Epi-wafel
CVD diamantsubstraten
Snel thermisch uitgloeisysteem
Hall-effect sensortester
Het Wafeltje van het aluminiumnitride
De Spaander van de laserdiode
Het Kristal van het siliciumcarbide
Ga2O3 Wafeltje
siliciumwafeltje
Sapphire Wafer
Gevormde Sapphire Substrates
wafeltjehouder
Wafelsnijmachine

Over

GaN Epitaxial Wafer: 2inch het Type van het Gezichtsfe Gesmeerde Si van GaN Epitaxial Wafer C Vrije Status; Fe Gesmeerd GaN Substrates Resistivity > 10 ⁶ Ω·De Apparaten van cm rf; 2 inch vrijstaande SI-GaN-substraten

Sic Epitaxial Wafeltje: Afschuining SiC epitaxiaal wafeltje 150,0 mm +0 mm/-0,2 mm 350,0um ± 25,0 um; 4H Kristalvorm SiC Epitaxiaal Wafeltje Wafeltje Rand Afschuining 350.0um ± 25.0um; Enig het c-Gezicht van het Kristal sic Epitaxial Wafeltje Optisch Pools Si-Gezicht CMP

LAAT BERICHT ACHTER

Privacybeleid | CHINA Goed Kwaliteit GaN Epitaxial Wafer Leverancier. © 2023 - 2025 epi-wafers.com. All Rights Reserved.