|
Productdetails:
|
| Productnaam: | 2-duim Free-standing Substraten u-GaN/SI-GaN | Afmetingen: | 50.8 ± 1mm |
|---|---|---|---|
| Dikte: | 350 ± 25μm | Vlakke richtlijn: | (1-100) ± 0.5˚, 16 ±1mm |
| Secundaire vlakke richtlijn: | (11-20) ± 3˚, 8 ± 1mm | GA-de ruwheid van de gezichtsoppervlakte: | < 0=""> |
| Markeren: | Vrij Bevindend GaN Epitaxial Wafer,De Substraten van u-GaN Si-GaN,50.8mm GaN Epitaxial Wafer |
||
2-duim Free-standing u-GaN/SI-GaN Substraten 50,8 ± 1 mm 350 ± 25 μm
2inch-c-Gezicht Un-doped n-type free-standing Weerstandsvermogen van het het enige kristalsubstraat van GaN < 0="">
Overzicht
GaN Breakdown Field
Een hoger analysegebied betekent dat het galliumnitride over silicium in hoogspanningskringen zoals high-power producten superieur is. De fabrikanten en de ingenieurs kunnen GaN in gelijkaardige voltagetoepassingen ook gebruiken terwijl het handhaven van een beduidend kleinere voetafdruk.
| 2-duim Free-standing Substraten u-GaN/SI-GaN | |||||||
|
Uitstekend niveau (s) |
Productieniveau (A) |
Onderzoek niveau (b) |
Proef niveau (c) |
Nota: (1) bruikbaar gebied: rand en macrotekortenuitsluiting (2) 3 punten: de miscuthoeken van posities (2, 4, 5) zijn 0,35 ± 0,15o |
|||
| S1 | S-2 | A-1 | A-2 | ||||
| Afmetingen | 50.8 ± 1 mm | ||||||
| Dikte | 350 ± 25 μm | ||||||
| Vlakke richtlijn | (1-100) ± 0,5o, 16 ± 1 mm | ||||||
| Secundaire vlakke richtlijn | (11-20) ± 3o, 8 ± 1 mm | ||||||
| Weerstandsvermogen (300K) |
< 0=""> of > 1 x 106 Ω·cm voor Semi-insulating (Fe-Gesmeerd; GaN-FS-c-Si-C50) |
||||||
| TTV | ≤ 15 μm | ||||||
| BOOG | ≤ 20 μm ≤ 40 μm | ||||||
| GA-de ruwheid van de gezichtsoppervlakte |
< 0=""> of < 0=""> |
||||||
| N de ruwheid van de gezichtsoppervlakte |
0,5 ~1,5 μm optie: 1~3 NM (fijne grond); < 0=""> |
||||||
| Pakket | Verpakt in cleanroom in enige wafeltjecontainer | ||||||
| Bruikbaar gebied | > 90% | >80% | >70% | ||||
| Dislocatiedichtheid | <9>5 cm2 | <3x10>6 cm2 | <9>5 cm2 | <3x10>6 cm2 | <3x10>6 cm2 | ||
| Richtlijn: C vliegtuig (0001) van hoek naar m-As |
0,35 ± 0,15o (3 punten) |
0,35 ± 0,15o (3 punten) |
0,35 ± 0,15o (3 punten) |
||||
| Macrotekortdichtheid (gat) | 0 cm2 | < 0="">-2 | < 1="" cm="">-2 | ||||
| Maximum grootte van macrotekorten | < 700=""> | < 2000=""> | < 4000=""> | ||||
Ongeveer ons
Wij specialiseren ons in de verwerking van een verscheidenheid van materialen in wafeltjes, substraten en aangepast optisch die glas parts.components wijd op elektronika, optica, opto elektronika en veel andere gebieden worden gebruikt. Wij hebben ook nauw met vele binnenlandse en overzee universiteiten, onderzoeksinstellingen samengewerkt en de bedrijven, verlenen aangepaste producten en de diensten voor hun R&D-projecten. Het is onze visie aan het handhaven van een goede verhouding van samenwerking met onze alle klanten door onze goede reputaties.
FAQ
Q: Bent u handelsmaatschappij of fabrikant?
Wij zijn fabriek.
Q: Hoe lang is uw levertijd?
Over het algemeen is het 3-5 dagen als de goederen in voorraad zijn.
of het is 7-10 dagen als de goederen niet in voorraad zijn, is het volgens hoeveelheid.
Q: Verstrekt u steekproeven? is het extra vrij of?
Ja, konden wij de steekproef voor vrije last aanbieden maar betalen niet de kosten van vracht.
Q: Wat is uw betalingsvoorwaarden?
Betalings <>
betaling >=5000USD, 80% T/T vooraf, saldo vóór verzending.
Contactpersoon: Xiwen Bai (Ciel)
Tel.: +8613372109561
